450毫米晶圆，极紫外光刻（EUV）被认为是未来两种半导体技术的突破，但进展并不顺利，拖了上来，似乎已有几年的时间来实现。
SemiAccurate报道，全球最大的半导体设备供应商荷兰ASML已经暂停450毫米晶圆生产设备在过去的一个星期，而在最近几周一直有消息称，英特尔也推迟了450毫米生产进度，而不是一点半点延迟。
此外，其他半导体工厂也有类似的说法。
目前，没有人确切地宣布450毫米晶圆将用于商业用途。英特尔只是含糊地说。十年的十个半年一般预计在2018年完成。
事实上，这是一个英特尔的发展规划更合理的一年。明年14nm，两年为2016，然后在2018推出7NM。
虽然英特尔已经展示了新的晶片，并开始建造新的工厂，业内人士认为，在10nm技术的450毫米晶圆几乎是不可能的，最快的为7nm。
为什么延期我不知道！技术、资本和合作都是可能的。
紫外光刻似乎更好一点，同时强调将在2015市售，希望英特尔10nm将使用。