英特尔已经开始在今年生产14nm制技术，以及下一代将10nm，英特尔原计划在2015年底开始10nm工艺。随着半导体技术进入10nm，EUV光刻设备的新一代也变得越来越重要，这取决于荷兰ASML公司的研究和发展。公司之前公布的Q3季度财报的日子，指的是他们将在2016日正式开通在10nm技术节点的光刻工艺，一般认为是英特尔公司的第一个客户。

荷兰ASML公司是全球最大的半导体设备制造公司，他们在两年前推出了测试EUV光刻设备NXE：3100、生产能力：3300b NEX，晶圆设备每天已经达到了500，但这个能力每小时提到70片或相差很多。

截至目前，共有6 3300b NXE：设备已被认证的运。总订单量的11，其中3去年出货，5出货或出货，而其余的3将升级到3350b下：2015。

ASML还提到，他们与客户在2016年年中结为10nm的EUV光刻设备的安装工作，这意味着我们将正式欢迎EUV技术经过两年的10nm技术节点。多年来讨论的技术终于开始大规模生产了。

ASML公司没有透露客户名称，但业内普遍认为，这是英特尔英特尔公司，ASML公司不仅是一个大客户，是2012大股东之一，投资41亿美元，在ASML公司，15%的股权当然，推动EUV光刻工艺是最活跃的，英特尔是最强大的，所有的金融第一，EUV技术的应用是不奇怪的。

然而，EUV技术被推迟了这么多年，英特尔一直很平静。之前，他们说，即使没有EUV光刻过程中，他们也知道如何在7nm技术使芯片。这意味着EUV技术更好，没有EUV能做到这一点。英特尔还不错。

根据英特尔的路线图，我们会提前7NM技术2017。我们不知道如何以这种方式突破硅原子的物理极限。是新材料的转变吗